我去搜了一下资料,这是化合物『半导体』用曝光装置(MaskAligner),为了实现多层曝光时的自动对位,装配有显微镜🔬和对位台,可以自动进行基板的供给、对位、曝光、排出。 第四台是荷兰ASML光刻机,型号是X…