日本 DNP 成功绘制 2nm 及以下工艺所需光掩模图案，出样 High NA 兼容光掩模

DNP 成功在其光掩模制品上绘制了支持先进制程的直线与复杂曲线图案，该产品有望用于 Rapidus 的 2nm 产线。