宽禁带科技论|香港科技大学陈敬课题组:宽禁带『半导体』氮化镓、碳化硅的最新研究进展
针对这一瓶颈,陈敬教授课题组提出采用N型掺杂的GaN帽层作为『半导体』栅极以取代传统的金属栅极,构建n-GaNp-GaNAlGaNGaN增强型HEMT,具体结构如图2-1所示,其中在有源区沟道上方的n-Ga…
针对这一瓶颈,陈敬教授课题组提出采用N型掺杂的GaN帽层作为『半导体』栅极以取代传统的金属栅极,构建n-GaNp-GaNAlGaNGaN增强型HEMT,具体结构如图2-1所示,其中在有源区沟道上方的n-Ga…
