磁控溅射技术新进展:氮化铝陶瓷靶材在5G『芯片』封装中的关键作用
在这一背景下,磁控溅射技术凭借其高精度、低损伤的镀膜特性,成为『芯片』封装工艺中不可或缺的核心技术之一。氮化铝(AlN)陶瓷靶材作为磁控溅射技术的重要材料载体,因其独特的物理化学性质,在5G『芯片』封装领域展现出显著…
在这一背景下,磁控溅射技术凭借其高精度、低损伤的镀膜特性,成为『芯片』封装工艺中不可或缺的核心技术之一。氮化铝(AlN)陶瓷靶材作为磁控溅射技术的重要材料载体,因其独特的物理化学性质,在5G『芯片』封装领域展现出显著…