通过气态反应物（如金属有机化合物、氢化物、卤化物等）在高温或等离子体辅助下发生化学反应，生成固态薄膜并沉积在基片表面。 利用CVD的高台阶覆盖性，在复杂结构（如深槽、孔洞）中均匀沉积薄膜，用于MEMS器件、…
