二手SHINCRON新柯隆RAS-1100溅射镀膜机转让信息
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设备型号：SHINCRON新柯隆RAS-1100溅射镀膜机
适用领域：半导体镀膜、光学、磁学等
设备特点：高性能、高稳定性，适用于多种薄膜材料的制备
务内容：包安装、调试、培训及工艺服务
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设备概述
新柯隆RAS溅射沉积系统是一款高性能的溅射镀膜设备，采用先进的溅射技术，能够实现多种材料的高质量沉积。该系统广泛应用于半导体、光学、磁学等领域，适用于薄膜材料的制备。
系统组成
1. 溅射源
- 包括靶材、离子源、加速器等，用于产生高能离子束。
2. 真空系统
- 包括泵、真空室、管道等，用于维持溅射室内的低真空环境。
3. 沉积室
- 包括基板架、样品室、进样机构等，用于放置样品和进行溅射沉积。
4. 控制系统
- 包括计算机、触摸屏、PLC等，用于控制整个系统的运行。
5. 辅助设备
- 包括电源、加热器、冷却器等，用于提供溅射过程中所需的辅助条件。
工作原理
1. 溅射源产生高能离子束，通过加速器加速后，射向靶材表面。
2. 离子束撞击靶材，使靶材表面发生溅射，靶材表面的原子或分子被溅射出来。
3. 溅射出的原子或分子在真空室内飞行，并沉积在基板上，形成薄膜。
4. 通过控制系统调整溅射参数，可以控制薄膜的厚度、成分和结构。
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操作方法
1. 启动真空系统，将溅射室抽至所需真空度。
2. 将靶材安装在溅射源上，确保靶材表面与溅射源距离适中。
3. 将基板放置在基板架上，确保基板与溅射源距离适中。
4. 启动控制系统，设置溅射参数，包括功率、时间、温度等。
5. 启动溅射源，开始溅射沉积。
6. 沉积完成后，关闭溅射源，等待基板冷却。
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设备部件清单
序号 | 部件名称 | 品牌 | 型号 数量 1 | 机械泵组 | SHINCRON | MTR-630 | 1个 |
2 | 分子泵 | OSAKA | TG3451MVWB | 2个 |
3 | 深冷 | POLY COLD | PFC-670HC | 1个 |
4 | 溅射阴极 | SHINCRON | - | 2对 |
5 | 溅射电源 | AE | PEII-10KW | 2个 |
6 | 真空腔室 | SHINCRON | 1100 | 2个 |
7 | ICP | SHINCRON | 5KW | 1个 |
8 | 转架 | SHINCRON | 1100 | 3个 |
9 | 转架推车 | SHINCRON | 1100 | 2个 |
10 | 加热系统 | SHINCRON | - | 1个 |
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