只差光刻机,中国自研『芯片』设备,就能制造14nm『芯片』了?

『芯片』不是手搓出来的,都是由设备制造出来的,而制造『芯片』的设备,被大家称之为『半导体』/『芯片』设备。

并且与其它设备不一样,『芯片』设备与工艺是对应的,其精度也决定了『芯片』的精度。

比如光刻机、刻蚀机等,均是对应14nm、或28nm、或10nm、5nm这样的『芯片』,并不是一台设备,就可以覆盖全部工艺。

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所以『芯片』设备的先进程度,也决定了『芯片』制造的先进性和产业竞争力,决定了能够制造出什么样的『芯片』。

那么问题来了,目前如果我们不对外采购这些『芯片』设备,全部采用国产『芯片』设备,能够制造多少纳米的『芯片』?

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近日,有机构将『芯片』制造的主要设备进行了梳理,然后标注了国产设备达到的工艺节点。

如上图所示,淡黄色部分是已经规模量产,且工艺覆盖到的,而表格中标注企业的,代表着已经有企业在这个工艺节点推出了产品,技术已经覆盖到了。而没有标注的,自然就是没有推出相关产品的。

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我们可以看到,除了光刻机是特例之外,在28nm阶段,几乎全部覆盖到了。

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而在14nm领域,也有很多企业实现了覆盖。而最先进的是中微的刻蚀机,已经实现了5nm『芯片』的覆盖,专业机构认为,到2025年,除光刻机外,14nm的设备,国产可以全部覆盖到。

至于光刻机,确实是老大难的问题,不要说14nm,连28nm,65nm,都没有确切的消息已经实现了覆盖。

在『芯片』制造上,其实最终的水平,取决于最短的那真板子,也就是木桶理论,所以,目前真正最严峻的设备,还是光刻机。

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只要我们光刻机有突破,不说EUV,只要能够搞定浸润式DUV,实现到7nm,那我们我们就几乎不用担心什么设备卡脖子了,因为国产设备已经够先进了。

而按照机构的数据显示,2025年,中国『芯片』设备市场的规模约为380亿美元💵,而2026年也会有360亿美元💵,一直排名全球第一。

可见,只要国产设备水平上来,不仅可以减少依赖,还能每年减少几千亿的进口,所以真的要加油了。

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