台积电前研发处长评价中国光刻机:去做8nm技术是绝对可能的,但是良品率有多少还是个疑问

台积电前研发处长评价中国光刻机:去做8nm技术是绝对可能的,但是良品率有多少还是个疑问

国自主研发的光刻机。你们看到新闻了吗?台积电前研发处长杨光磊对中国光刻机做出了评价,说中国光刻机理论上可以做到8nm,这可是个不小的突破!不过他也提出了一个关键问题 - 良品率究竟有多高?这个问题确实值得我们深入探讨一下。

光刻机是什么东西呢?咱们可以把它理解为『芯片』制造中的“大厨”,没有好的“大厨”,就做不出好“菜”。这家伙在『芯片』生产中扮演着举足轻重的角色,技术含量高得吓人,制造难度大,一直是卡住我们脖子的关键技术之一。

我国工信部去年发布消息说, 国产65nm氟化氩光刻机已经实现了193nm波长输出 ,这是个了不起的进步!按理论来说,通过多次曝光工艺,这种光刻机甚至有可能生产出8nm制程的『芯片』。杨光磊大佬也认可了这一点,他表示在技术上,中国光刻机制造8nm『芯片』是“绝对可能的”。

不过话说回来,光刻机能不能量产『芯片』,可不是一个简单的事情。 良品率 是什么概念呢?打个比方,你们写100道题,答对99道,那良品率就是99%。『芯片』生产也一样,生产出来的『芯片』有多少是合格的,这就是良品率。目前国外进口的光刻机良品率能达到90%以上,而国产的大概在70%-80%左右。良品率低意味着成本高,竞争力就会受影响。

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杨光磊这位大佬可不是随便说说的,他曾经在全球最大的『芯片』代工厂台积电担任研发处长,绝对是这个领域的权威人士。他提到,台积电距离英特尔最近的一次技术对标是在14nm时代。现在台积电已经在量产5nm『芯片』了,而英特尔的7nm工艺才刚刚投产不久。看看这个差距,就知道技术进步有多快了!

我国的光刻机技术虽然和国际顶尖水平还有差距,但进步速度确实让人惊叹。据说 荷兰阿斯麦 (全球最大的光刻机制造商)的老总已经开始重视中国光刻机的发展,并要求下属部门进行深入研究。阿斯麦甚至已经知道中国可以量产28nm『芯片』,并开始就此展开合作。

这些进步意味着什么呢? 国产光刻机的突破提高了市场竞争力,也大大减少了我们对进口的依赖 。想想看,过去我们买块『芯片』都要看别人脸色,现在自己慢慢有了生产能力,这种感觉真的很不一样!

同学们,科技发展从来不是一蹴而就的事情。国产光刻机的发展让我们看到了希望,虽然还面临很多挑战,但只要坚持不懈地努力,我相信我们的科技水平一定会越来越强!

你们觉得中国光刻机的发展前景如何?在座的计算机专业和电子工程的同学们,你们愿意投身这个领域,为国家的科技发展贡献力量吗?

技术的自主可控是一个国家真正强大的标志 ,希望不久的将来,我们能完全掌握『芯片』制造的核心技术,不再受制于人!‌

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