InP(311)B衬底上的砷化铟量子点VCSEL

InP(311)B衬底上的砷化铟量子点VCSEL

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索尼半导体解决方案公司和日本国立信息通信技术研究所(NICT)称,通过应用应变补偿技术,首次演示了在磷化铟(311)B(InP(311)B)衬底上制备的C波段砷化铟(InAs)量子点垂直腔面发射激光器(QD VCSEL)的电泵浦激光振荡 [Michinori Shiomi et al, Optics Express, v33, p12982, 2025]。

传统C波段光通信的波长范围为1530-1565nm。研究人员认为,与边发射器件相比,VCSEL的主要优势在于速度更快、功耗更低、可进行二维集成。除通信领域外,这些特性也适用于三维传感点阵投影仪,其在大于1.4μm的人眼安全短波红外(SWIR)范围内具有较高的允许曝光水平。

研究团队评论道:“在InP衬底上实现带有InAs量子点有源层的量子点VCSEL的电泵浦振荡,即可通过利用1550nm波长左右的低损耗光纤,显著增强波分复用通信。”

研究人员采用固体源分子束外延在InP(311)B衬底上生长样品(图1)。量子点层之间的InGaAlAs间隔提供了应变补偿,提高了结晶度,并最大限度地提高了量子点密度(约8x1010/cm2)。

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图1:(a)光泵浦量子点VCSEL示意图。(b)HAADF-STEM截面图。

在光泵浦实验中,含有5层量子点的材料实现了100nm的半峰全宽和1550nm的设计波长。该器件的激光阈值泵浦功率为45μW,而InGaAsP量子阱(QW)VCSEL的激光阈值泵浦功率为60μW。

研究人员评论道:“量子点VCSEL相较于量子阱VCSEL具有较低的阈值,这可归因于两个因素:量子点结构的体积较小,因而损耗较低;量子点具有类似δ函数的态密度。”

介质分布式布拉格反射器(DBR)中的二氧化硅/二氧化钛(SiO2/TiO2)层对提供了光学约束,使量子点处于电场的波腹。

图2:电泵浦量子点VCSEL的(a)俯视图和(b)截面图。

为实现电泵浦,对材料结构进行了调整(图2)。底部的介电DBR被62个InP/InGaAlAs半导体层对取代。此外,还采用了掺杂硅(Si)和铍(Be)的InGaAs隧道结,以便向InAs量子点区注入空穴。孔径为12μm。

注入25mA脉冲电流时,峰值输出功率为0.17mW(图3)。阈值电流为13mA。研究团队评论道:“光-电流(L-I)曲线中观察到的非线性源于滚转现象,这种现象是偏置条件下热效应引发的载流子溢出造成的。”在15mA电流下,激光波长为1536nm。研究人员表示,通过调整腔长,可以将波长调谐到光通信青睐的1550nm。

图3:(a)量子点VCSEL的光输出功率和电压随电流变化的特性曲线。(b)15mA时的光谱。

光学偏振测量显示,其与InP[-233]方向一致。InP晶体结构也影响了量子点的形状,根据平面视角高角度环形暗场扫描透射电镜(HAADF-STEM)图像,量子点呈椭圆形,沿InP[-233]方向的长轴为33.0nm,沿InP[01-1]方向的短轴为19.8nm。

研究团队评论道:“由于固有的形状效应,椭圆形量子点的发光特性通常沿其长轴偏振,本研究的结果与这一行为一致。然而,此前报道的晶体生长过程中产生的应变也可能影响偏振控制,这意味着观察到的偏振行为受到形状和应变效应的共同影响。”

良好的光学偏振控制有望开辟一系列应用,而这些应用是量子阱VCSEL难以轻易实现的。

研究团队希望通过进一步的研究,能够在更高温度及高速直接调制条件下实现需要1mA阈值电流和1mW输出功率的通信应用。

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