证券之星消息，根据『天眼查APP』数据显示拉普拉斯（688726）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“镀膜炉体和镀膜设备”，专利申请号为CN202421526685.9，授权日为2025年4月8日。
专利摘要：本申请提出一种具有自清洁功能的镀膜炉体和镀膜设备。镀膜炉体包括炉管、第一密封组件、等离子体发生器和第二密封组件，炉管的内部形成有反应腔。本申请通过在炉管的外部设置等离子体发生器，并在炉管的两端分别设置第一密封组件和第二密封组件以保证炉管在清洁时的密封性，并使等离子体发生器与第一密封组件上的等离子进气口连接，使得等离子体发生器产生的等离子体进入至反应腔内均匀分布，等离子体能与反应腔的非晶硅膜反应，从而能去除反应腔内所有石英件上的非晶硅膜，达到在线清洁和同时清洁的目的。
今年以来拉普拉斯新获得专利授权55个。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了2.96亿元，同比增27.5%。
数据来源：『天眼查APP』
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