应用材料公司申请具有提高的稳定性的选择性的薄膜沉积专利，在处理腔室中在基板不同区域沉积不同硬度的层

金融界2025年6月9日消息，国家知识产权局信息显示，应用材料公司申请一项名为“具有提高的稳定性的选择性的薄膜沉积”的专利，公开号CN120113046A，申请日期为2023年09月。

专利摘要显示，披露了一种处理基板的方法，所述方法包括在处理腔室中在基板的特征的场区域、侧壁区域和填充区域上沉积层，其中沉积在侧壁区域上的层的一部分的硬度低于沉积在场区域上的层的一部分的硬度，并且低于沉积在填充区域中的层的一部分的硬度。