6月27日消息，ASML技术高级副总裁Jos Benschop在接受《日经亚洲》采访时表示，该企业已同光学组件独家合作伙伴蔡司一道启动了5nm分辨率的Hyper NA光刻机开发。
作为参考，目前的TWINSCAN EXE:5000光刻系统采用High NA (0.55NA) 光学系统，分辨率为8nm。更高的分辨率意味着先进制程企业可减少曝光次数、提升光刻图案质量。
Jos Benschop提到，ASML尚未设定Hyper NA光刻机推出的目标日期，不过项目开发目标是将NA（注：数值孔径）进一步提升到0.7乃至更高；5nm的分辨率意味着Hyper NA系统能满足2035年乃至更后阶段的产业需求。
对于近来才启动部署的High NA图案化设备，这位ASML高管称这些机台的广泛使用要晚一些，这是因为行业需要测试、验证并建立相应的生态系统；0.55NA光刻机预计可满足本十年内乃至到三十年代初的行业需求。
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