顿磊:激光清洗≠激光烧灼

有人说激光清洗就是激光烧灼, 顿磊表示不认可。

目前常用的激光有三种:波长1064nm的光纤激光、10600nm的二氧化碳激光,还有355nm的紫外激光。这三种又能分成脉冲和连续两种类型。

光纤激光和二氧化碳激光主要靠“烧蚀”,但紫外激光不一样,它靠的是光化学作用,它在清洗过程中几乎不产生热量,俗称冷光源。具体来说,光纤激光对导体和『半导体』材料管用,二氧化碳激光主要对付绝缘体,紫外激光则啥材料都能搞定,但价格相当昂贵。

光纤激光和二氧化碳激光清洗时,是靠激光把脏东西烧成气体弄没的,这属于热效应;紫外激光就像把分子键打断,有点像电解水,水变成氢气和氧气消失了,所以它清洗时几乎不产热,就算有也特别少。

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从微观上怎么理解呢?激光也是光,速度跟阳光一样,都是3×10⁸米/秒。不同的光波长和振动频率不一样,波长乘以频率就等于光速,所以波长不同,频率也不同。比如光纤激光波长1064nm,它的频率就是3×10⁸除以1064;二氧化碳激光波长10600nm,频率就是3×10⁸除以10600。

金属分子振动活跃,当它的振动频率和激光频率一样时,就会共振,分子间摩擦力突然变大,瞬间产生大量热,超过气化点,脏东西就变成气体没了。绝缘材料分子运动不活跃,刚好和二氧化碳激光的频率对上,激光一照就共振、产热、气化。

紫外激光跟它们俩完全不同,它的波长短,振动频率高、单光子能量大,能打断几乎所有材料的分子键。

其实激光清洗有点像洗脸,都是只去掉脏东西,不伤害本身。而且激光特别好控制,精细度高,能做到微米级清洗,比如『芯片』清洗,目前也就激光能做到。

随着各种波长的激光器越来越多,激光清洗能发挥的地方也越来越大。像激光除锈、除漆,清洗模具、电路板等等,都只是它的一小部分应用。

总的来说,激光清洗分热清洗和冷清洗。光纤激光和二氧化碳激光属于热清洗,靠共振产热把东西气化;紫外激光是冷清洗,不产热,靠打断分子键让脏东西分解。

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