拓荆科技取得一种抽气件、反应腔及薄膜沉积设备专利，提高薄膜的沉积质量

金融界2025年7月9日消息，国家知识产权局信息显示，拓荆科技（上海）有限公司取得一项名为“抽气件、反应腔及薄膜沉积设备”的专利，授权公告号CN223074250U，申请日期为2024年09月。

专利摘要显示，本实用新型公开了一种抽气件、反应腔及薄膜沉积设备，抽气件包括：环形本体和肩部，肩部，环设于所述环形本体的外侧壁，所述肩部上开设有多个第一抽气孔，多个所述第一抽气孔沿所述环形本体的圆周方向分布于所述肩部上，所述第一抽气孔沿所述环形本体的轴向贯穿所述肩部。通过肩部上的第一抽气孔形成可供吹扫气体流通的通道，喷淋板外圆周部分的吹扫气流可以通过第一抽气孔被抽走，吹扫气体与工艺气体两路气流相互独立，减少吹扫气体进入到反应区域，避免了干扰工艺气体，防止对工艺结果造成影响，提高薄膜的沉积质量。

天眼查资料显示，拓荆科技（上海）有限公司，成立于2025年，位于上海市，是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本143253.79万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆科技（上海）有限公司参与招投标项目20次，财产线索方面有商标™️信息1条，专利信息264条，此外企业还拥有行政许可29个。