3440 亿砸进半导体,日媒发文质疑,咱能造出自己的ASML不?

3440 亿砸进半导体,日媒发文质疑,咱能造出自己的ASML不?

前言

3440亿元!这个数字一出来,整个半导体圈都炸了,日本媒体更是坐不住了。

《日经亚洲》直接发文质疑:"中国能造出自己的ASML吗?"字里行间透着一股前所未有的紧张感

这钱砸得有多狠?日本人慌得有多厉害?中国光刻机真能让ASML睡不着觉?

作者:含

3440亿砸下去,日本人慌了:中国这次玩真的

这笔钱不是随便砸的。

国家大基金三期的3440亿投资,瞄准的是光刻机这个"卡脖子"技术。

说白了,这是中国政府下的最大决心,要在半导体设备领域实现完全国产化

日本《日经亚洲》的反应最能说明问题。

这家媒体一向对中国科技发展嗅觉敏锐。

这次他们的报道标题直接了当:"中国能造出自己的ASML吗?"

文章字里行间透着一种前所未有的紧张感,甚至带着几分恐慌。

为什么日本人这么紧张?

先看看数据:2024年,中国从荷兰ASML购买了价值89.2亿欧元的设备。

这个数字占ASML当年系统销售额的41%,中国成为其全球最大市场。

但现在情况变了。

中国开始大规模投入自主研发,这意味着什么?

意味着这个巨大的市场可能不再需要进口设备。

对于长期依赖中国订单的日本设备制造商来说,这简直是噩梦。

更让他们担心的是中国的执行力

这不是第一次中国在关键技术领域发力。

从高铁到5G,从新能源汽车到太空探索,中国一旦认真起来,速度快得让人咋舌。

这次光刻机技术攻关,动用的是国家层面的资源。

上海光机所攻光源系统,长春光机所攻光学镜头。

清华大学攻双工件台,华为负责系统集成。

这种举国体制的优势,是其他国家很难复制的。

绕过所有专利陷阱,中国光刻机走了条什么路?

技术封锁逼出了中国人的创新。

面对ASML的技术垄断和专利壁垒,中国选择了一条不同的路。

传统的EUV光刻机使用激光诱导等离子体技术,这条路被专利封死。

中国科学家另辟蹊径。

上海光机所的林楠团队带来了重大突破。

他们绕过美国禁运的二氧化碳激光技术,用固体激光器激发锡等离子体。

能量转换效率达到3.42%

这个数字意味着什么?

虽然离ASML的5.5%还有差距,但已经是固体光源路线的世界顶尖水平。

更重要的是,这条技术路线完全绕开了西方的专利陷阱

复旦大学的突破同样令人瞩目。

他们研制的"无极"芯片采用台式无掩膜直写光刻系统。

这种方案摆脱了传统光刻机对掩膜版的依赖。

线宽精度达到0.4微米,加工速度高达180平方毫米/分钟

虽然暂时无法用于7纳米以下先进制程,但对物联网芯片、汽车电子等领域已经足够。

华为东莞工厂的进展更是让外界震惊。

据日本媒体获取的内部文件显示,华为正在测试国产EUV样机

样机已进入总装阶段

这意味着中国在光刻机整机集成方面取得了实质性进展。

中科院微电子所在工艺端也有突破。

他们针对EUV光刻中的红外干扰问题,研发出新型辐射抑制模型。

这项技术能精确控制收集镜表面的热负载,提升光刻系统稳定性。

中国不买了,这些巨头开始裁员

市场数据最能说明问题。

ASML在2025年初将年度营收预期从400亿欧元下调至350亿欧元

首席执行官傅恪礼不得不承认:"中国市场需求变化超出预期。"

这是什么概念?

中国曾贡献ASML全球营收的36%,现在这个比例已降至27%

下滑的不仅仅是市场份额,更是对未来的预期。

日本光刻机企业受创更重。

尼康将年度利润预期下调50%

佳能虽未公布具体数据,但内部报告显示其光刻机订单量下滑40%

东京电子的高管私下抱怨:"三年前中国客户求着我们发货,现在连询价电话都少了。"

这种转变背后是中国企业的快速崛起。

北方华创已冲进全球芯片设备企业第六名

在刻蚀、沉积等关键领域打破了外国企业的垄断。

中微半导体在薄膜沉积技术上也实现了重大突破。

更关键的变化在产业链重构。

中芯国际、长鑫存储、长江存储这些"国家队"企业正在做一件事:换装备

在生产线最关键的环节,那些曾被外国设备垄断的岗位,正一个个被国产替代品接管。

这种"蚂蚁搬家"式的替换不动声色,却意味着深刻变化。

数据显示,中国芯片设备国产化率已从三年前的20%提升至45%

按照这个趋势发展下去,60%的目标指日可待。

为了挽救市场,日本住友电木等材料商紧急在中国设厂。

但这种本土化生产能挽回多少份额,还很难说。

因为中国企业的目标不仅仅是降低成本,更是要掌握核心技术

一旦技术自主可控,价格优势只是附带的好处。

美国制裁的反噬效应开始显现。

原本想通过技术封锁遏制中国发展,结果倒逼出了中国的全产业链自主创新

十年后,ASML还能躺着赚钱吗?

历史总是惊人的相似。

上世纪90年代,尼康曾是全球光刻机老大,市场份额超过50%

但ASML通过技术创新和浸润式光刻技术,逐步超越了尼康。

现在,中国正在重演这一幕。

不同的是,中国走的是差异化技术路线

当ASML执着于将光刻精度推向1纳米时,中国在同步发展三维集成、存算一体等特色工艺。

复旦大学"无极"芯片采用的二维半导体材料,功耗仅为硅基芯片的十分之一。

在物联网、航天等领域,这种技术独具优势。

更深远的影响在标准制定权

中芯国际联合华为开发的芯片先进封装技术,已获苹果供应链认证。

上海微电子28纳米光刻机进入中芯国际生产线后,良率追平台积电同级产品。

这些突破使中国从技术追随者转变为规则参与者

美国半导体专家梅根·哈里斯发出了警告。

"最坏情况是,中国的工具制造商不仅在国内具有竞争力,甚至在国际上具有竞争力。"

她的担心正在变为现实。

华为已经实现了海外突围

在中东和东南亚市场,昇腾910B芯片成为挑战英伟达垄断的"特洛伊木马"。

虽然年产能仅约20万枚,但向阿联酋、沙特和泰国的"小批量试水"已引起美国监管机构警觉。

华为还通过"云上算力"绕过实体芯片出口限制。

向海外客户提供远程访问中国境内CloudMatrix 384系统的服务。

搭载无法出口的先进昇腾910C芯片,这种模式极具创新性。

十年后的芯片世界会是什么样?

从目前的发展轨迹看,多极化竞争格局已经形成。

美国在设计软件和高端芯片方面依然领先。

中国在制造设备成熟制程方面快速追赶。

欧洲在材料和精密制造方面保持优势。

ASML的垄断神话终将落幕,这几乎是确定的趋势。

当ASML总裁傅恪礼曾宣称"中国十年内造不出EUV光刻机"时,他或许没料到会有这么快的变化。

#夏季图文激励计划#

结语

技术封锁这把双刃剑,最终还是割伤了自己。中国人骨子里的那股韧劲,越压越强。

十年内,全球半导体设备格局必将重新洗牌,躺着赚钱的好日子要到头了。

面对这场技术突围战,你最看好哪个突破方向?欢迎留言分享你的观点。

参考资料

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