金融界2025年7月19日消息，国家知识产权局信息显示，中山依瓦塔光学有限公司申请一项名为“一种大角度小畸变光学系统及其应用的中继镜”的专利，公开号CN120335119A，申请日期为2025年05月。
专利摘要显示，本发明提供一种大角度小畸变光学系统及其应用的中继镜，主要由6枚透镜构成，第一透镜具有正光焦度、物侧面为凸面、像侧面为凹面，第二透镜具有负光焦度、物侧面为凸面、像侧面为凹面，第三透镜具有负光焦度像侧面为凹面、像侧面为凹面，第四透镜具有正光焦度、物侧面为凸面、像侧面为凸面，第五透镜具有负光焦度、物侧面为凹面或平面、像侧面为凹面，第六透镜具有正光焦度、物侧面为凸面、像侧面为凹面，通过镜片形状及光焦度的合理搭配，达到大视场角以及校正畸变的目的，解决大角度中继镜畸变大给大角度被测镜头模组带来的测量长度误差，搭载该光学系统的中继镜出瞳直径加大，将大大降低测试设备对被测镜头模组与中继镜对中要求的精度。
天眼查资料显示，中山依瓦塔光学有限公司，成立于2012年，位于中山市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，中山依瓦塔光学有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目3次，财产线索方面有商标信息7条，专利信息149条，此外企业还拥有行政许可9个。
