在『半导体』制造中，光刻胶剥离与清洗是影响良率的关键环节，而N-甲基吡咯烷酮(NMP)作为核心溶剂，其浓度控制直接决定工艺稳定性。浓度过低会导致光刻胶残留，引发缺陷;过高则可能腐蚀敏感结构，造成批次性报废。传统离线检测方式时效性差，难以应对浓度波动带来的良率风险。对此，DERACE(达锐斯)基于折光原理的在线NMP浓度检测仪，为『半导体』清洗工艺提供了高效解决方案。
该设备通过实时监测溶液折射率变化，精准计算NMP浓度，数据更新频率达秒级，可快速捕捉浓度异常。相较于电导率或pH检测法，折光原理不受溶液颜色、气泡或悬浮颗粒干扰，在NMP典型工作浓度范围内(如20%-99%)稳定性更优，测量精度达±0.1%。设备采用无耗材设计，大幅降低维护成本，长期运营优势显著。
在『半导体』产线中，达锐斯检测仪已实现多场景应用：
主槽浓度监控：实时反馈剥离槽内NMP浓度，联动自动补液系统，确保浓度稳定;
漂洗残留检测：监控清洗/漂洗槽中NMP残留量，避免交叉污染;
回收纯度监测：在蒸馏提纯环节验证NMP纯度，保障回收液质量;
废液处理合规：监测废液浓度，确保符合环保处理要求。
通过精准的浓度控制，达锐斯设备有效减少了晶圆批次间差异，降低了因浓度波动导致的良率损失。其高稳定性与低维护特性，更助力『半导体』企业提升产线效率，在精密制造领域树立了在线检测技术的新标杆。
