7月18日傍晚，在武汉东湖高新区九峰山实验室，研究中心无线连接组负责人吴畅和成员们刚从洁净室出来，来不及吃饭，就一头扎进会议室，与刚从客户现场回来的团队成员一起就白天出现的问题进行推演。
今年3月，由该团队牵头突破的全国首个100nm高性能氮化镓流片PDK平台正式发布后，已有30余家国内半导体企业通过该平台与九峰山实验室展开合作。团队开启了忙碌的“接单模式”，协助客户使用该PDK平台进行流片。
氮化镓是下一代半导体技术的核心材料，应用场景广泛，在通信、新型显示、电力电子等领域被视为“黄金材料”，有望引发全球范围的产业技术革命。据介绍，该实验室通过构建氮化镓共性技术平台，带动了近10家合作伙伴落地武汉，实现了以科技创新驱动产业创新。
“这里的氮化镓产业链，就像我们实验室里的氮化镓外延层，在协同作用下悄然生长。”该实验室生态系统部负责人吴琼说，这里建有国内首个硅基氮化镓工艺验证平台，像一个精密齿轮，紧密啮合着上下游的创新需求。
武汉氮化镓产业的快速发展，很大程度上得益于九峰山实验室共性技术平台和“纵向协同+横向辐射”的创新模式。这种从技术突破到产业落地的高效转化，为武汉在短时间内打造氮化镓产业集群提供了关键支撑。
“以技术灯塔照亮产业发展之路，我们希望实验室能持续发挥技术引领作用，真正做到科研与产业深度融合，实现创新极核与区域发展双向奔赴。”吴琼介绍，九峰山实验室运营2年多来，已吸引30多家创新企业在其周围聚集，总估值超过百亿元，全球产业合作伙伴已达570家。（通讯员张希为 记者李佳 实习生刘巧钰）
