据闪德资讯获悉,三星电子预计在16层HBM应用混合键合技术。
一旦HBM超过16层,现有热压(TC)键合将无法实现,准备引入混合键合技术。
HBM是将多个DRAM垂直堆叠,以提高数据处理速度半导体,TC键合DRAM过程,必不可少的设备。
混合键合技术能够消除微凸块(焊球),直接将DRAM连接到铜,减小HBM厚度。
三星电子表示,在第7代16层HBM4E同时采用TC键合和混合键合,在第8代20层HBM5全面引入混合键合。
目前最新商业化产品是12层HBM3E。
当间距小于15微米时,必须转向混合键合技术,该技术还具备散热良好优势。
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