英特尔宣布Intel18A工艺进入风险试产:年底大规模量产(英特尔宣布首席执行官退休)

英特尔宣布Intel18A工艺进入风险试产:年底大规模量产(英特尔宣布首席执行官退休)

Intel 18A:一场由底层技术创新引领的『半导体』制造革命

全球『半导体』制造业正经历一场深刻的变革,其核心驱动力正是源于英特尔Intel 18A工艺节点的突破性进展。这项技术的量产在即,标志着英特尔“四年五个节点”技术蓝图的完美收官,也预示着未来计算体验的巨大飞跃。 搭载Intel 18A工艺的Panther Lake客户端处理器和Clearwater Forest『服务器』处理器即将面世,它们不仅是英特尔技术实力的象征,更是其在全球晶圆代工领域雄心壮志的体现。

Intel 18A的成功并非偶然,而是英特尔持续多年巨额投入和全球化布局的结晶。为了实现“四年五个工艺节点”的承诺(2021-2024),英特尔在全球范围内的资本支出高达惊人的900亿美元💵,其中约370亿美元💵直接用于晶圆厂设备建设。 这笔巨额投资已在俄勒冈州、亚利桑那州等地的工厂转化为实际生产力,为Intel 18A的量产做好了充分准备。爱尔兰工厂的成功更是实现了欧洲首个EUV量产节点的突破。 此外,英特尔在美国新墨西哥州、俄勒冈州、马来西亚以及中国成都、越南等全球多地战略性布局先进封装产能,构建了一个覆盖北美、亚洲和欧洲的多元化制造与封测网络,为Intel 18A的全球化供应提供了坚实保障。

Intel 18A的卓越性能源于其革命性的设计,并非简单的工艺缩微,而是晶体管架构和供电方式的协同跃迁。它首次将RibbonFET(环绕栅极晶体管)和PowerVia(背面供电技术)两大颠覆性技术集成于一身。 RibbonFET技术彻底革新了传统的FinFET结构,如同为电流搭建了更精准高效的高速公路,实现了更优的栅极静电控制和更低的寄生电容,显著提升了晶体管的开关效率和设计灵活性。 PowerVia技术则如同对『芯片』供电网络进行了一次彻底的重构,将原本位于晶体管正面的供电线路巧妙地转移到『芯片』背面,实现了供电网络与信号传输网络的物理分离和解耦。这种“背面供电”模式带来的好处是显而易见的:显著降低信号干扰,单元密度提升高达50%,电压稳定性大幅增强(固有电阻下降被有效压低),最终使得『芯片』在相同功耗下能释放出更强大的性能。

Intel 18A的实际收益令人瞩目。与上一代Intel 3工艺相比,它实现了高达15%的每瓦性能提升和30%的『芯片』密度提升。在实际应用中,其优势更为明显:在相同功耗下,性能提升18-25%;若追求相同运行频率,功耗则可降低36-38%。这种灵活的性能功耗调配能力,使其能够完美适配从0.65V低电压到1.1V高电压的各种应用场景,无论是极致能效还是高性能计算都能轻松应对。 以标准Arm核心设计为例,Intel 18A实现了平均约30%的密度提升,单元利用率也提升了约6.5个百分点。 PowerVia技术更是将单元能源利用率再提升8%,并将最坏情况下的电压降(IR Drop)降低了惊人的10倍,显著增强了『芯片』在高负载下的稳定性。

为了实现这些突破,Intel 18A在『芯片』细节上也进行了精密的优化。它提供了更紧凑的单元库选项,高密度库高度从210nm降至160nm,高性能库高度从240nm降至180nm。在金属互连层方面,虽然M0间距略增至32nm(以容纳背面供电所需空间),但M2间距却从42nm大幅缩减至32nm,优化幅度超过30%。更重要的是,PowerVia技术的集成简化了制造流程——关键金属层(如M0-M4)能够直接利用EUV光刻技术一步到位地完成图案化,减少了多重曝光的需要,显著降低了工艺复杂度和制造成本(光罩数量减少约44%)。同时,Intel 18A显著优化了互连电阻(RC),在多个关键金属层级(如M0/M3/M6)的通孔电阻实现了最高49%的显著降低,进一步提升了『芯片』内部信号传输的速度和效率。

展望未来,Intel 18A的量产规划清晰而稳健,风险试产阶段进展顺利,目标锁定在2025年底大规模生产。 Intel 18A-P将在保持密度的前提下进一步提升约8%的每瓦性能,并与18A设计规则兼容,预计2026年第四季度量产。 Intel 18A-PT则专注于3D堆叠性能的飞跃,通过与Foveros Direct先进封装技术结合,实现最高9倍的Die间带宽密度提升和显著的功耗降低,为下一代AI XPU奠定基础。 更前沿的Intel 14A节点也已在规划中,计划2027年量产,将导入第二代RibbonFET、创新的PowerDirect直接触点供电以及High-NA EUV光刻技术,目标实现15-20%的能效提升和30%的密度提升。

英特尔不仅注重技术创新,更致力于构建一个开放、强大且值得信赖的代工生态系统。 Synopsys、Cadence、Siemens EDA等顶尖EDA厂商的工具和IP已全面支持Intel 18A节点,为『芯片』设计公司扫清障碍。“英特尔代工芯粒联盟”(Intel Foundry Chiplet Alliance)的成立,则致力于推动开放、可互操作的芯粒(Chiplet)生态,为客户提供更具弹性和成本效益的设计方案。 与Amkor等顶级封测伙伴的深化合作,进一步增强了客户在晶圆制造和封装测试环节的灵活性选择。

总之,Intel 18A的到来,标志着『半导体』制造业进入了一个新的时代。 英特尔通过其先进的工艺技术、全球化的制造布局和开放的生态系统,正引领着这场由底层技术创新驱动的效率革命,为全球消费者和科技产业带来更强大、更智能和更绿色的计算体验。

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