思密得科技取得沉积镀膜系统专利，提高基片表面沉积材料的均匀度(思密达职业培训学校)

金融界2025年8月8日消息，国家知识产权局信息显示，杭州思密得科技有限公司取得一项名为“一种沉积镀膜系统”的专利，授权公告号CN223201903U，申请日期为2024年11月。

专利摘要显示，本实用新型属于沉积镀膜设备技术领域，涉及一种沉积镀膜系统，包括壳体以及设置壳体内的蒸气发生装置、喷头腔、喷嘴腔和蒸气输送管路，在喷头腔与喷嘴腔之间设置喷头孔相互连通，在喷嘴腔上设置喷嘴孔，基片的待沉积区域位于喷嘴孔外所在的镀膜区域内。在喷头孔内设置喷头匀气装置，在喷嘴孔内设置喷嘴匀气装置，在喷头匀气装置中设置有长方形的喷头匀气间隙，在喷嘴匀气装置中设置有长方形的喷嘴匀气间隙，喷头匀气间隙和喷嘴匀气间隙的长度方向分别与基片的沉积镀膜方向一致。本实用新型分别在喷头孔内设置匀气装置，在喷嘴孔内设置喷嘴匀气装置，对流经喷头孔和喷嘴孔的沉积材料蒸气进行均匀化处理，提高了基片表面沉积材料的均匀度。

天眼查资料显示，杭州思密得科技有限公司，成立于2023年，位于杭州市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本8800万人民币。通过天眼查大数据分析，杭州思密得科技有限公司。