编辑丨苏木 文丨苏木
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中国芯片行业陷入瓶颈的时候，杭州一家公司解决了最尖端的问题！
提到芯片光刻机似乎是绕不开的围墙，就在国内芯片行业一阵哀叹的时候，这家公司硬生生把芯片精度做到了10纳米以内！
最终给出的成品甚至比公开的国际先进水准还要高，杭州这家公司到底是怎么做到的呢？
路被堵死那就换条路
我们必须承认，想原样复刻一台EUV光刻机，这条路几乎是死的，那匪夷所思的光源和鬼斧神工的镜头，是别人几代人压箱底的绝活。
跟在后面从头走一遍，无异于重走长征，耗时耗力更耗掉的是我们追赶的黄金时间。
正面战场是绞肉机，那能不能从侧翼开辟一个新战场？纳米压印技术，就是这条被很多人忽略的小路。
这技术的原理，朴素得像个老手艺人，EUV像用一支精细到极致的光笔，在晶圆上搞微雕，一笔一划都是巨大的能量和金钱。
而纳米压印呢，更像我们老祖宗的活字印刷，或者说盖章。
先精雕细琢一个刻满电路的“印版”，然后在涂满特殊胶水的晶圆上，像盖章一样，“啪”一下直接把图案压上去。
这个思路一下子就绕开了EUV技术里那两座最烧钱、最难翻越的大山，超级光源和复杂镜头，成本和能耗双双暴跌，这不就是最典型的“换道超车”么？
当然想法简单，不代表做起来容易，这个章怎么能盖得又平又准，毫厘不差？那层当“印泥”的胶，怎么能涂得又薄又匀？
盖完之后，多余的残胶怎么控制到最少？这些都是世界级的难题，过去这个领域的头把交椅一直被日本佳能牢牢攥在手里。
而杭州璞璘科技交出的这台设备，硬生生把这些硬骨头全啃了下来！
他们用喷墨的方式，把胶水涂到了10纳米以内的薄度，比头发丝的万分之一还薄。
他们做到了在常温常压下，让模板和晶圆完美贴合，压出来的图形深宽比超过7：1，相当于在米粒上刻出一条又深又窄的峡谷。
最关键的是，它的线宽精度做到了10纳米以内，这个指标比佳能对外公开的、受出口管制的机型还要强悍。
这就好比我们没有去追求打造一把更锋利的宝剑，而是把“活字印刷”这门古老手艺，练到了登峰造极、出神入化的地步。
好钢要用在刀刃上
任何新武器如果找不到合适的战场，就是一件摆设，纳米压印有它的好，但也有它的“偏科”。
比如每次盖章前，如果芯片设计不同，就得换个“印版”，这个过程比EUV光刻要慢。
所以用它来造结构极其复杂、花样百出的顶级CPU，效率上暂时拼不过。
聪明的打法，从来不是拿自己的短处去碰别人的长处，而是要找到一个能把自己的优势发挥到极致的战场。
这个战场就是存储芯片，特别是3DNAND闪存，打个比方就是造CPU，像是印一本内容迥异的艺术画册，每一页都不同，追求也更灵活。
而造存储芯片，更像印刷报纸，里面是海量、重复的文字方块，3DNAND的结构，就是亿万个一模一样的存储单元垂直堆叠起来的摩天大楼。
这种高度重复的图形，简直是为纳米压印技术量身定做的，它不需要频繁更换模板，可以一次又一次地“盖章”，把成本低、精度高的优势发挥到淋漓尽致。
眼下长江存储这样的国内厂商，在存储领域奋力追赶三星、海力士，最大的瓶颈之一，就是先进设备被卡脖子。
璞璘这台机器的出现，无异于雪中送炭，为国产存储冲向更高层数，递上了一门关键的“攻城锤”。
除了存储芯片这个主战场，还有很多新兴领域，也在焦急地等待着这样的技术。
比如未来的光速计算和通信离不开的硅光芯片，又比如AR/VR眼镜里，要在指甲盖大小的面积上做出超高分辨率的微显示屏。
这些领域的共同点是，对图形精度要求极高，但图形结构相对简单，同时对成本又极其敏感。
纳米压印的特点，和它们的需求简直一拍即合。
这就形成了一个非常清晰的打法，先拿下存储芯片和特色工艺芯片这些“根据地”，在这些领域站稳脚跟，形成自我造血的能力。
这正是我们骨子里最熟悉的“农村包围城市”，先易后难积小胜为大胜。
条条大路通罗马
这不只是一条绕出去的小路，更可能是一条通往山顶的新路！
很多人会问，纳米压印再好，终究不是EUV，它会不会只是一个特定时期的替代品，一个“备胎”？
短期看它的确是解我们燃眉之急的利器，让中国半导体在某些领域，终于不用再被动地“等、靠、要”。
但把眼光放长远，它的意义远不止于此。
一台光刻机，背后是一个庞大的产业链，它需要配套的模板、特种胶水、检测设备。
过去我们都弱，因为没有国产的“火车头”来拉动需求，现在璞璘的设备出来了，国内做材料、做配套的企业就有了靶子，一个围绕纳米压印的国产化生态圈，正在悄然成型。
更重要的是技术是活的，它在不断进化，纳米压印的下一个目标，就是攻克小于10纳米的多层套刻对准精度。
一旦这个终极难关被突破，它将有能力制造更复杂的逻辑芯片，到那时一个凭极致的物理“压印”，一个靠极致的光学“雕刻”，两条不同的技术路线，将在山顶相遇。
所以璞璘这台机器，远不止是一台机器，它是一个火种，更是一种思路，它告诉我们，在被封锁的棋局里，我们不一定非要沿着别人的路线图苦苦追赶。
棋局未到终盘，只要敢于另辟蹊径，总能印出一条属于自己的路来。
参考资料：
金融界《我国自主研发光刻机交付，突破10nm工艺》
