日久光电取得高透光率电磁屏蔽膜专利，实现低方阻的同时保证较高的透过率(日久光电题材)

金融界2025年8月16日消息，国家知识产权局信息显示，江苏日久光电股份有限公司取得一项名为“高透光率电磁屏蔽膜”的专利，授权公告号CN223231499U，申请日期为2024年07月。

专利摘要显示，本申请公开了一种高透光率电磁屏蔽膜，包括依次层叠设置的透明基材层、第一保护层、金属屏蔽层、高折射率增透层和第二保护层；其中，所述高折射率增透层的折射率大于1.68，所述高折射率增透层的厚度为2～30nm。本申请高透过率电磁屏蔽膜在金属屏蔽层和第二保护层之间布置有高折射率增透层，一方面能够增强屏蔽膜的抗环境性能和抗反射性能，另一方面利用光学匹配原理，提升了薄膜的透过率，从而在实现低方阻的同时保证较高的透过率，透过率达到35％，透过率相对于未设置高折射率增透层的屏蔽膜增大了45～55％，能够满足特定应用场景的需求。

天眼查资料显示，江苏日久光电股份有限公司，成立于2010年，位于苏州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本28106.6667万人民币。通过天眼查大数据分析，江苏日久光电股份有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目2次，财产线索方面有商标™️信息14条，专利信息213条，此外企业还拥有行政许可16个。