金融界2025年8月20日消息，国家知识产权局信息显示，哈金森公司取得一项名为“用于流体回路的去离子器以及流体回路”的专利，授权公告号CN223233839U，申请日期为2024年07月。
专利摘要显示，本实用新型涉及用于流体回路的去离子器以及流体回路，该去离子器包括流体连接基部(2)和筒体(8)，该筒体包括本体(10)和罩盖(20)，该罩盖被配置为附接到该本体，该罩盖(20)包括连接到中心井(25)的平台(21)，该平台相对于纵向轴线(X)横向延伸并且封闭该本体的内部储存腔(16)，该中心井在该本体(10)内部延伸并且包括两个相邻部段。上部部段(25a)包括由第二筛网覆盖或包括该第二筛网的第二孔口(27a、27b、27c)，这些第二孔口被配置为允许流体(F)从该中心井进入该内部储存腔，并且该第二筛网被配置为保持树脂(A)并且防止该树脂离开该内部储存腔(16)。下部部段(25b)没有孔口。
