1. 光谱发射率与全波『长发』射率
材料的辐射☢️能力在不同波长上存在差异，这种依赖于波长的特性被称为光谱发射率（spectral emissivity）。对于需要精细分析特定波段辐射☢️特性的应用，如设计光谱选择性涂层，光谱发射率至关重要。然而，在大多数宏观热分析中，『工程师』更关心的是材料在整个热辐射☢️波谱范围内的总体辐射☢️能力。将光谱发射率在所有波长上进行积分，便得到“全波长”或“总”发射率（total emissivity），这是一个综合性的参数，极大地简化了热辐射☢️的工程计算。
2. 定向发射率与半球发射率
除了波长依赖性，材料表面的辐射☢️强度还可能随发射方向（即与表面法线的夹角）的变化而变化，这被称为定向发射率（directional emissivity）。对于非接触式测温（如红外热像仪）等仅接收特定方向辐射☢️的应用，定向发射率是关键参数。然而，在评估一个表面与周围环境的总热交换时，需要考虑所有方向的辐射☢️。将定向发射率在表面上半球空间的所有方向上进行积分，便得到“半球发射率”（hemispherical emissivity）。
3. 总半球发射率的现实意义
综合以上两个维度，总半球发射率（total hemispherical emittance）是描述材料在特定温度下，在所有波长、所有方向上的总辐射☢️能力的最终指标。对于绝大多数热管理和热建模应用，无论是建筑能耗分析、电子设备散热设计，还是航天器热控系统的构建，总半球发射率都是最关键、最实用且最被广泛引用的核心参数。AE1 RD1 发射率计的设计目标，正是直接、准确地测量这一关键参数。
D&S AE1/RD1 发射率测量仪：创新的现场测量范式
传统的发射率测量方法通常需要在实验室环境中将样品加热至已知温度，再测量其辐射☢️出的能量，这一过程在现场条件下难以实现且耗时。AE1 发射率计的设计巧妙地颠覆了这一传统模式，通过加热测量探头而非样品，创造了一种稳定、可控且适用于现场的测量环境。
其核心原理基于一个差分温差电堆探测器。在测量过程中，AE1 的探测器头部被内部电加热元件维持在一个恒定的高温状态，而待测样品则处于室温。这种设计人为地在探测器和样品之间建立了一个必要的温差，从而驱动热量传递。由于探测器与样品表面紧密接触，两者间的热对流可以忽略不计，使得热传递过程主要由辐射☢️主导。
样品表面的发射率越高，其吸收来自高温探测器的辐射☢️能力就越强，导致探测器与样品间的辐射☢️热流越大。这个热流被差分温差电堆精确地转换成一个电压信号。通过精心的工程设计，该电压输出与样品表面的发射率呈现出近乎线性的关系。这种线性关系极大地简化了测量流程。用户无需进行复杂的非线性校正或查阅换算表，只需通过简单的两点校准，即可使配套的 RD1 电压表直接显示发射率数值。
这种“加热探测器”而非“加热样品”的设计范式，是 发射率测量仪AE1 RD1 实现其核心优势——便携性、易操作性和快速测量的根本原因。它摆脱了对样品加热设备、样品温度精确监控以及样品热物性（如热容、导热系数）的依赖，将一个原本复杂的实验室测量过程，简化为在现场只需“放置-校准-测量”三步即可完成的标准化操作。
