华为鸿蒙 HarmonyOS 6.0.0 (20) Beta5 开发者版本发布(华为鸿蒙HarmonyOS5.1曝光)

9 月 15 日消息，华为鸿蒙 HarmonyOS 6.0.0 (20) Beta5开发者版本今日发布，新版本在 5.1.1 (19) 版本基础上，进一步增强 ArkUI 组件能力，新增多个系统组件并优化多个组件调用细节等；ArkWeb 的 Chromium 内核升级至 132 版本，ArkWeb 能力增强；新增端侧问答模型，支持端侧的智能问答，新增智慧化数据检索 C API，支持向量化、知识检索和知识问答的能力；地图能力新增矢量图层、流场图层、海量点图层、热力图层，支持通过自定义组件生成 marker 图标等等。

另外，DevEco Studio 新增 AI 智能辅助编程，进一步提升编译构建效率和优化内存占用，ArkUI Inspector 新增支持按照组件粒度 3D 展开应用，方便查看组件之间的嵌套、遮挡关系，智慧调优能力新增支持对 Allocation 内存分配问题和 Snapshot 内存堆快照问题进行分析。

附华为鸿蒙 HarmonyOS 6.0.0 (20) Beta5 开发者版本关键特性如下：

AppGallery Kit

• 应用市场更新功能新增支持 Wearable 设备。

App Linking Kit

• 新增支持通过聚合链接按指定方式跳转至应用，例如跳转至 HarmonyOS 平台预览页、应用市场详情页、自定义网址、深度链接地址等。

ArkUI

• C API 新增提供渲染节点的能力。

Camera Kit

• 新增支持对微距状态变化事件的监听。

Media Kit

• 新增支持通过 C API 设置捕获图像在目标区域的填充模式。

DevEco Studio 6.0.0 Beta5（6.0.0.848）新增和增强特性如下：

开发环境搭建

• 元服务工程支持 Car 设备开发。
• 新建元服务工程时，支持在 DevEco Studio 页面内注册新的元服务 App ID。
• 新增 OpenHarmony 开源中心仓（OHPM Index）入口，帮助开发者高效筛选和管理三方库。

使用 AI 智能辅助编程

• 智能问答新增添加本地的知识库，并根据知识库进行指定风格的上下文问答功能。
• 新增生成意图装饰器和添加意图插件能力，以及 DevEco Studio 新增内嵌的小艺智能平台。

编写与调试应用

• 新增支持测试 C++ 代码，对 C++ 代码进行覆盖率统计。
• 自动签名新增关联注册应用进行签名的功能。
• Code Linter 新增 6 条检查规则。

变更特性

• 在预览器中使用文件管理相关的 API 时，仅支持预览 / 预览调试 Stage 模型的 HAP / HSP，并且需要先打开 Enable file operation 开关。

6.0.0 (20) Beta5 开发者套件配套信息

软件包

发布类型

版本号

Build Version

发布时间

系统

Beta

HarmonyOS 6.0.0 Beta5

软件版本：6.0.0.47

API 版本：6.0.0 (20)

2025/09/15

DevEco Studio

Beta

DevEco Studio 6.0.0 Beta5

6.0.0.848

2025/09/15

SDK

Beta

HarmonyOS 6.0.0 Beta5 SDK

基于 OpenHarmony SDK Ohos_sdk_public 6.0.0.47 (API 20 Beta5)

2025/09/15