光刻机需求或高于ASML预期:预计2027年将交付10台High-NA EUV和56台EUV(光刻机市场需求规模)

(来源:超能网)

随着人工智能(AI)浪潮带动了『芯片』产业的发展,投资机构对ASML产品的长期需求仍保持乐观,因为这些『芯片』普遍采用最新的『半导体』制造技术。虽然不少『芯片』制造商都延后引入新一代High-NA EUV,但是从整体来看,市场对光刻设备的需求仍处于上升趋势。

据Techpowerup报道,近日ASML表示,根据目前的订单信息和需求,预计2027年将交付10台High-NA EUV和56台EUV光刻机。其中英特尔和三星最近都提高了光刻机的订单量,英特尔将High-NA EUV的订购数量从1台提高到2台,EUV的订购数量从3台提高到5台,另外三星也将EUV的订购数量从5台提高到7台。

值得注意的还有SK海力士,2027年ASML要交付的EUV光刻机里占了20台,同时也将High-NA EUV的订购数量从1台提高到2台。此外,传闻SK海力士计划在未来两年内安装好20台EUV光刻机,全部是为了HBM及先进存储解决方案设计。

虽然英特尔很可能是首个在量产上引入High-NA EUV光刻技术的『芯片』制造商,不过三星和SK海力士正在迎头赶上。特别是SK海力士,以目前的产能扩张速度需要更多的厂房,为安装光刻机留有足够的空间。

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