电子行业微纳世界的建筑师:光刻技术深度解析-金元证券(微纳电子器件)
光刻技术是半导体制造的核心环节,每个掩模层均需以光刻为起始,其决定着技术节点的限制,每代节点的最小特征尺寸约为上一代的70%,电路密度翻倍。光刻基本流程包括旋涂光刻胶、预烘烤、曝光、显影,前提是完成掩模版设…
光刻技术是半导体制造的核心环节,每个掩模层均需以光刻为起始,其决定着技术节点的限制,每代节点的最小特征尺寸约为上一代的70%,电路密度翻倍。光刻基本流程包括旋涂光刻胶、预烘烤、曝光、显影,前提是完成掩模版设…
今天分享的是: 报告共计:29页 《电子行业深度研究报告:折叠屏手机:智能手机破局与产业链重构》指出,全球智能手机市场进入存量竞争,高端化趋势明显,折叠屏手机成为突破增长瓶颈的核心方向,2025年全球出货量预…