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打破佳能封锁！国产10nm纳米压印光刻机破壁(佳能断货)

这台标志着中国首台半导体级步进纳米压印光刻系统的设备，实现了线宽＜10nm的工艺精度，在残余层控制（＜10nm）、深宽比（＞7：1）等核心指标上超越日本佳能同类产品，成功突破了日本佳能长期垄断的纳米压印光刻…