专利摘要显示，本申请涉及离子注入技术领域，具体提供了一种角度可调的多工位靶台系统及离子注入机，该系统包括：支架；多个靶盘组件，圆周阵列在支架上且与支架铰接，用于安装晶圆；多个靶连杆，每个靶连杆的一端均与一个…
