TechInsights：预计 ASML High NA EUV 光刻机功耗约 1400 千瓦
目前有 31 家晶圆厂采用 EUV 光刻，到 2030 年将增长至 59 家，而 EUV 光刻设备的数量增幅则将超过 100%。
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季节性周期因素和对 AI 数据中心的强劲投资推动了半导体行业在三季度的整体增长，但消费、汽车和工业领域的复苏仍然较慢。
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