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  • TechInsights:预计 ASML High NA EUV 光刻机功耗约 1400 千瓦

    TechInsights:预计 ASML High NA EUV 光刻机功耗约 1400 千瓦

    4月前

    目前有 31 家晶圆厂采用 EUV 光刻,到 2030 年将增长至 59 家,而 EUV 光刻设备的数量增幅则将超过 100%。

  • SEMI:两年来首度,2025Q3 半导体制造业所有关键指标环比正增长

    SEMI:两年来首度,2025Q3 半导体制造业所有关键指标环比正增长

    4月前

    季节性周期因素和对 AI 数据中心的强劲投资推动了半导体行业在三季度的整体增长,但消费、汽车和工业领域的复苏仍然较慢。

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