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MCA-SEVNLDAEFR-K(Dnp)-RR, Amide;438625 - 61 - 7

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日本 DNP 成功绘制 2nm 及以下工艺所需光掩模图案,出样 High NA 兼容光掩模

DNP 成功在其光掩模制品上绘制了支持先进制程的直线与复杂曲线图案,该产品有望用于 Rapidus 的 2nm 产线。

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