广微集成申请防止沟槽肖特基二极管晶圆背腐进酸专利，优化沟槽结构为蓝膜均匀覆盖提供基础
专利摘要显示，本发明公开了一种防止沟槽肖特基二极管晶圆背腐进酸的方法，包括以下步骤：采用多个梯形夹具间隔固定于晶圆的边缘环形区域，所述梯形夹具的底部朝向晶圆的光刻图形区域，使得梯形夹具与所述边缘环形区域接触…
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