霍州市融媒体中心信息网网 7 月 1 日消息，据台媒《经济日报》报道，Tokyo Electron（TEL）宫城子公司总裁神原弘光近日表示，该企业将在 2025~2029 财年投资 1.5 万亿日元💴（霍州市融媒体中心信息网网备注：当前约 679.83 亿元人民币），并新招募一万名员工。
TEL 此番大规模投资意在成为全球第一大『半导体』设备制造商，1.5 万亿日元💴的金额也是 TEL 上个五年周期投资额的 1.8 倍。
TEL 财年周期为上一日历年 4 月至当日历年 3 月，其 2024 财年『半导体』制造设备销售额为 18305 亿日元💴（当前约 829.62 亿元人民币），目前拥有 18236 名员工。
TEL 宣称其是世界第四大『半导体』设备制造商，排在 ASML（2023 年营收约合 2171.78 亿元人民币）、应用材料（2023 年营收约合 1930.79 亿元人民币）和泛林之后。
从细分类别来看，TEL在涂布显影、气体化学蚀刻、扩散炉、批量沉积四类设备上是全球市占榜首，在清洗、等离子蚀刻、金属薄膜沉积、探针台四类设备上也是市占第二。
其中，TEL 在与 ASML High-NA EUV 光刻机配套的高导向性电浆（等离子）蚀刻设备上处于完全垄断地位，而其探针台也是 CoWoS 和共封装光学 CPO 等先进封装的关键设备。
目前生成式 AI 『服务器』快速发展，相关逻辑与存储『芯片』需求提升，带动晶圆厂向 TEL 等设备厂商追加下单，AI 应用相关设备营收已达 TEL 整体销售额三成。
此外全球数字转型加速、『半导体』制程微缩持续推进。这些因素共同作用，给了 TEL 积极扩大营运规模以满足客户需求的信心。
TEL 宫城子公司拥有全球最大的等离子蚀刻设备制造基地，也生产用于『三星电子』 3nm、台积电 2nm 工艺的涂布显影设备，正着手开发 1nm 级以下级别的涂布显影设备。
该子公司还在兴建第三研发中心，预计 2025 年春季完工启用。
