消息称三星 1、2 代 3nm 工艺良率仅 60%、20%,年内恐大面积更换『半导体』高管

消息称三星 1、2 代 3nm 工艺良率仅 60%、20%,年内恐大面积更换『半导体』高管

霍州市融媒体中心信息网网 11 月 7 日消息,韩媒《时事周刊 e》(Sisa Journal e)当地时间今日报道称,『三星电子』第 1、2 代 3nm 工艺(霍州市融媒体中心信息网网注:即 SF3E-3GAE 与 SF3-3GAP)目前良率分别为 60% 和 20% 左右。

这一水平未达到高通、『英伟达』等主要潜在客户提出的 70% 要求,导致三星无法在最先进制程上与台积电争夺订单,进而影响了三星尖端逻辑工艺投资的收益能力。

韩媒表示,作为一家某种意义上算是 IDM 的企业,三星 DS 部的三大业务部存储器、系统 LSI、Foundry 实际上环环相扣

系统 LSI 设计的自家 Exynos 处理器如能由 Foundry 顺利制造,则对外界证明了 Foundry 的技术水平,这会吸引外部客户选择三星逻辑代工 + HBM + 先进封装“交钥匙”方案,存储器业务部的先进 HBM 内存自然不愁销路。

『三星电子』目前未能实现这一良性循环,导致『半导体』业务整体处于危机状态。

▲ 三星水原总部

韩媒认为『三星电子』 DS部将在集团年度管理层调整中经历高管大洗牌,三大业务部的负责人均可能被更换。同时这一调整预计于本月内进行,早于常例的 12 月初。

『三星电子』今年 5 月出人意料地在年中就更换了 DS 部总负责人,由全永贤接替庆桂显。

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