传三星HBM4的逻辑Base Die测试良率已超40%

传三星HBM4的逻辑Base Die测试良率已超40%

4月17日消息,随着高带内存(HBM)演进到第六代的HBM4,其底部的Base Die将首次采用逻辑制程制造,这也成为了同时拥有先进逻辑制程工艺的存储『芯片』厂商『三星电子』的一大优势。

据《朝鲜日报》报道,此前在HBM技术竞争中落后的『三星电子』,其在HBM4 12层 技术的开发和制造方面已经取得了巨大进展,其为HBM4开发的基于其4nm逻辑制程的Logic Base Die的测试良率已超过40%。

一位业内人士解释说:“40%的初始测试生产良率意味着,这是一个有利的数据,可以立即推进业务。”他补充道:“通常情况下,晶圆代工工艺的良率起始于10%左右,随着量产,良率会逐渐提高。”

报道称,『三星电子』的晶圆代工部门引入了多项新工艺,可在生产该逻辑『芯片』的同时提升性能。『三星电子』『半导体』部门负责人全永铉最近也对晶圆代工部门的工作表示了鼓励。

相比之下,三星的竞争对手——SK海力士正在生产HBM4 12层产品,并已向客户发送样品。目前在HBM市场,SK海力士占据了超过70%的市场份额,同时也借此优势,成功在今年一度超越三星,成为了全球最大的DRAM厂商。据市场调研公司Counterpoint Research的数据,今年第一季度,SK海力士在DRAM领域的市场份额为36%,『三星电子』紧随其后,为34%。

为了缩小与SK海力士的在HBM市场的差距,三星已经将HBM4视为其拓展市场份额的关键产品。三星内存部门正在开发的HBM4 12层产品将基于其10纳米级第六代(1c)DRAM『芯片』和4nm的逻辑『芯片』。而SK海力士正则选择的是将上一代DRAM(1b DRAM)用于HBM4,这意味着如果三星能够稳定量产1c DRAM和4nm Logic die,它将在HBM4性能方面占据优势。

此外, DRAM 和逻辑『芯片』封装在一起形成最终产品的封装技术也至关重要。三星采用的封装方法与 SK 海力士不同,三星采用的是“先进热压非导电粘合膜 (TC-NCF)”技术,该技术每次堆叠『芯片』时都会铺设一层薄膜材料。然而,这种封装方法被认为难以控制发热。

业内人士指出,“『三星电子』面临的任务是稳定HBM使用的DRAM及其封装技术。”

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