随着现代触控技术的不断进步，未来触控面板将往大尺寸化、低价化，可弯曲折叠化方向发展。传统ITO薄膜由于存在导电性差、成本昂贵、不可弯曲等本质问题而发展受限。金属网格工艺技术为大尺寸低电阻、窄边框提供了有力技术支持，该技术可以将柔性『触控屏』尺寸从『智能手机』的常用面板尺寸覆盖到86英寸以上。采用金属网格透明导电膜来替代ITO透明导电膜已成为未来趋势。目前常用的金属网格工艺是，通过显影、蚀刻等工艺在PET膜上得到预留凹槽(宽度≤3μm)；再将导电银浆刮涂入刻蚀的预留凹槽中，进行低温固化，形成金属网格触控电极及周边引线，得到金属网格电容式『触摸屏』。该工艺方法由于工艺简单，成本低、透光性好，产品柔性高等优势，逐步成为『触摸屏』柔性化、大尺寸、轻薄化发展的重要趋势。
在上述工艺技术中，银浆是其核心原材料之一。『触摸屏』导电银浆，是一种高银含量超细银粉低温导电银浆，采用独特的工艺将超细银粉和高分子树脂精研而成。为了达到高透明度、高导电率的要求，银浆的电阻率要小，且填充于槽内的银浆经过低温固化后，必须与基材具有极佳的结合力和机械性能。目前常用三辊机来分散银浆，但是颗粒细度比较大，分散性也不好，无法有效填充于3微米超细沟槽内。另外，着色用的碳浆也存在上述问题。
为了解决上述技术问题，我们提供了用TRILOS超高压纳米均质机，制作『触摸屏』用银浆和碳浆的方法。
1. TRILOS超高压纳米均质机介绍：
TRILOS超高压纳米均质机采用高压喷射原理，能够在短时间内产生巨大的剪切力，碰撞力，气穴力，从而将大量能量集中作用于物料，使物料的成分以完全的均质的状态存在，能够大幅提升效率。
TRILOS超高压纳米均质机不堵不漏，采用10寸工业『触控屏』，可实时监控压力曲线图，最高压力可达4000bar。
图1 均质机原理图
图2 TRILOS超高压纳米均质机
2. 实验描述：
先用混料脱泡机预分散银浆或碳浆，然后采用TRILOS超高压纳米均质机，均质分散样品，并研究不同均质次数对浆料分散稳定性的影响。分别采用LISICO分散均质分析测试仪或LUMiSizer分散稳定性分析仪，测试样品的稳定性。
3.实验过程及测试结果：
3.1．银浆：
采用TRILOS超高压纳米均质机，将银浆样品在2500bar压力下分别处理1至5遍。
图3 用TRILOS超高压纳米均质机处理银浆
采用LISICO分散均质分析测试仪（图4），测试均质前后银浆样品的分散稳定性，结果如图5所示。
图4 LISICO 分散均质分析测试仪
由图5可知，均质1次后，银浆样品的弛豫时间有所增加，分散稳定性变差；继续均质几次，样品的弛豫时间减小至均质前的水平，表明其分散稳定性变化不大。粒径测试结果表明，均质前的TDS-0样品的D50粒径为5微米；均质4次后，TDS-4样品的粒径降至2.5微米。此外，电性能也较均质前提高10%左右。
图5均质前后银浆样品的弛豫时间
此外我们也采用LUMiSizer分散稳定性分析仪（图6），测试银浆样品的稳定性，结果如图7所示。
图6 LUMiSizer稳定性分析仪（测试条件：4000 g，16h，25℃）
图7 均质前后银浆样品的不稳定性指数对比
采用STEP技术，可以定量分析稳定性，得出每个样品的“不稳定性指数”。不稳定性指数越小，表明体系越稳定。由银浆样品的不稳定指数柱状图可知，就实验全过程来看，样品的不稳定性顺序依次为：TDS-4<TDS-0=TDS-1<TDS-5<TDS-3<TDS-2,其中TDS-4样品最稳定。
3.2．碳浆：
采用TRILOS超高压纳米均质机，将碳浆样品在2500bar压力下分别处理1至5遍。
图8 均质前后碳浆样品的弛豫时间
由图8可知，均质1次后，碳浆样品的弛豫时间大幅减小，分散稳定性变好；继续均质几次，碳浆样品的弛豫时间与均质前相当。表明均质次数不能过多，否则对分散稳定性有不利的影响。
4. 结论：
经过TRILOS超高压纳米均质机处理后，『触摸屏』用银浆的粒度减小，电性能提高；着色用的碳浆的分散稳定性变好。
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