ResiScopeTM II是一个具有高灵敏度和高分辨率的独特系统，能够测量的电阻范围超过10个数量级。它可以与多种动态力模式相结合如MFM/EFM或单通KFM，在同一扫描区域内测量多种样品表征。测量方法是通过在样品和导电的AFM探针之间施加一个直流偏置（针尖接虚拟地）。针尖是以接触模式扫描，利用激光偏转信号作为AFM反馈。作为一个独立的测量功能，ResiScopeTM II是通过高性能的放大器（HPA）来测量样品电阻值的。样品是由探针以接触模式扫描，利用激光偏转信号作为AFM反馈。
各种应用
柔软样品 可再生能源 半导体 材料
HD-KFMTM
高清KFM
除了标准的KFM模式外，Nano-Observer还能提供一种高清KFM模式，极大的提高了分
辨率，并提高了表面电位的测量灵敏度
标准的KFM模式
较长的距离用抬高模式=较低的灵敏度 抬起高度 较大的特征用抬高模式 = 较低的分辨率
HD-KFMTM 模式
典型的抬起高度：10~50 nm
在传统的KFM中，电势力要弱100倍
典型的抬起距离：0.1 nm~0.3 nm
电势力≈1/距离^2
HD-KFMTM
应用
石墨烯在 SiC基底表面电位信号，HD-KFMTM 模式, 扫描范围 7 μm,a)单层石墨烯, b)多层石墨烯.
世联博研北京公司提供
