金融界2025年6月28日消息，国家知识产权局信息显示，昆山国音超声波工业设备有限公司取得一项名为“一种具有烘干机构的『半导体』晶元超声波清洗装置”的专利，授权公告号CN223038902U，申请日期为2024年08月。
专利摘要显示，本实用新型涉及『半导体』晶元加工技术领域，尤其涉及一种具有烘干机构的『半导体』晶元超声波清洗装置，包括底座，所述底座上端设置有清洗槽，所述底座两侧内部均等距设置有多个孔洞；支架，所述支架两侧内壁之间滑动连接有活动框，所述活动框一侧贯穿滑动连接有承载框。清洗槽内部存储有适量的清洗液，清洗液通过多个通孔流动至承载框内部，再配合超声波发生器对承载框内部的『半导体』晶元进行清洗，通过超声波对『半导体』晶元进行清洗，能够彻底去除晶圆体表面的微粒、金属杂质、有机物和其它污染物，活动框带动承载框向上滑动，热气流从多个孔洞喷出，喷出的热气流通过多个通孔流动至承载框内部，对承载框内部的『半导体』晶元进行烘干处理。
天眼查资料显示，昆山国音超声波工业设备有限公司，成立于2010年，位于苏州市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本200万人民币。通过天眼查大数据分析，昆山国音超声波工业设备有限公司参与招投标项目1次，专利信息20条。
