最新消息催化
顶层设计支持
光刻胶被列入“十四五”重点攻关项目,国家大基金三期专项投入超200亿元。
2025年《新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展若干政策》明确,光刻胶企业享受10年免税优惠。
高端光刻胶研发
ArF光刻胶:上海新阳的ArF干法光刻胶已通过28nm工艺验证,预计2025年进入中芯国际供应链,标志着国产ArF胶向先进制程迈进一步。
南大光电在ArF胶领域实现量产,毛利率达65%,推动国产化率从2%跃升至19%。
EUV光刻胶:南大光电建成国内首条EUV胶中试线,计划2026年完成客户导入。
武汉太紫微光电科技攻克光刻胶原料与配方,实现120nm极限分辨率,打破国外技术垄断。
市场需求爆发
2025年中国光刻胶市场规模预计达97.8亿元,其中半导体光刻胶占比46%,显示面板光刻胶规模达120亿元。
这一增长由两大引擎驱动:
一是晶圆厂扩产潮:中芯国际、长江存储等企业新增产能直接拉动ArF、EUV光刻胶需求;
二是显示面板技术迭代:OLED、MiniLED等新型显示技术对光刻胶提出更高要求,京东方、TCL华星等企业要求2025年国产化率达50%。
全球市场呈现“结构分化”特征:EUV光刻胶因3nm以下制程需求,年复合增长率达35%,但市场被日本JSR、东京应化垄断;
而ArF、KrF光刻胶在3D NAND中的应用增加,为国产替代提供了窗口期。
相关概念股梳理
彤程新材
KrF光刻胶20余款量产,ArF光刻胶100吨产能通过客户验证,子公司北京科华供货ASML。
南大光电
ArF光刻胶适配上海微电子光刻机,覆盖7nm-90nm制程,逻辑芯片/存储芯片领域快速放量。
飞凯材料
KX系列光刻胶适配IC封装,厚膜负性胶获主流厂商验证,兼容2.5D/3D封装。
雅克科
LCD光刻胶供应商,同时涉足电子特气,为海力士供应商。
上海新阳
国内唯一满足90-14nm铜制程电镀液量产需求,干法蚀刻后清洗液实现14nm国产替代。
最后一家,作者依然为大家挖掘了一家“光刻胶”第一黑马,高端产品独家出货,国产替代之光,稀缺性极强!
为避免打扰主力,想知晓公司名字的朋友唻炂纵㞻:小青说市,既可以知晓。深知小散不易,愿与大家共前行!
1、光刻胶市场占有率达到60%,国内领先。
2、高端ArF光刻胶已实现批量出货,对标国际光刻胶大厂产品。
3、中国唯一一家,掌握高档光刻胶研发技术,拥有全国唯一ASML曝光机。
4、中报业绩大幅提升再创新高,同比增长40%,129家机构重仓。
5、股价高位回撤60%,预期差极大,底部5倍放量。
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