日本『半导体』逆袭成功,正式宣布2nm晶圆试产(日本『半导体』逆袭案例)

日本『半导体』逆袭成功,正式宣布2nm晶圆试产(日本『半导体』逆袭案例)

快科技7月20日消息,据媒体报道,日本『芯片』制造商Rapidus已宣布启动2nm晶圆的测试生产,预计2027年正式进入量产阶段。

根据Tomshardware报道,在Rapidus日本的IIM-1厂区已经展开对采用2nm全环绕栅极架构(GAA) 晶体管技术的测试晶圆进行原型制作。

公司确认,早期测试晶圆已达到预期的电气特性,这表示其晶圆厂工具运作正常,制程技术开发进展顺利。

原型制作是『半导体』生产中的一个重要里程碑,目的在验证使用新技术制造的早期测试电路是否可靠、高效并达到性能目标。

Rapidus目前正在测量其测试电路的电气特性,包括临界电压、驱动电流、漏电流、次临界斜率、开关速度、功耗和电容等参数。

另外,Rapidus的IIM-1厂区自2023年9月动工以来件展正常,无尘室于2024年完成,截至2025年6月已连接超过200套设备,包括先进的DUV和EUV光刻工具。

之前有说法认为,日本本国的『半导体』产业在中国台湾地区和韩国『半导体』产业多年打击后,其老旧产线基本退出,仅剩少数设备仍在运行。

在台积电大规模投资日本工厂之前,日本连量产40nm制程『芯片』都难以实现,在制程领域甚至落后于中国大陆。

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