臻芯龙为申请附带气动密封的CVD真空反应器专利，使每个喷射孔排出气态物质流量与原先趋于一致(臻芯科技有限公司)

金融界2025年8月1日消息，国家知识产权局信息显示，臻芯龙为（上海）『半导体』材料有限公司申请一项名为“一种附带气动密封的CVD真空反应器”的专利，公开号CN120400799A，申请日期为2025年03月。

专利摘要显示，本发明公开了一种附带气动密封的CVD真空反应器，涉及化学气相沉积技术领域，包括壳体、进气管、调节单元及置物单元，所述壳体内安装有加热设备，且所述壳体的顶端开设有安装孔，壳体的侧壁安装有进料门；所述调节单元包括基壳、流量喷管、可调喷头及自适应流量调节组件。本发明通过改变调节单元的喷射面积后产生的气压变化，使自适应流量调节组件自动完成对进气管流量的自适应调节，相较于现有技术中通过同步固定化的调节进气管的流量及调节单元的喷射面积，调节过程中气压会出现波动，本发明的调节单元在喷射面积改变后，能够使每个喷射孔排出的气态物质的流量与原先的流量趋于一致，避免影响到对基材的镀膜效果。

天眼查资料显示，臻芯龙为（上海）『半导体』材料有限公司，成立于2022年，位于上海市，是一家以从事零售业为主的企业。企业注册资本1316.8724万人民币。通过天眼查大数据分析，臻芯龙为（上海）『半导体』材料有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目3次，财产线索方面有商标™️信息9条，专利信息3条，此外企业还拥有行政许可2个。