金融界2025年8月1日消息，国家知识产权局信息显示，拓荆创益（沈阳）『半导体』设备有限公司取得一项名为“一种调平装置及应用其的薄膜沉积设备”的专利，授权公告号CN223176208U，申请日期为2024年10月。
专利摘要显示，本实用新型公开了一种调平装置及应用其的薄膜沉积设备，调平装置包括第一调整块、第二调整块、固定组件以及调整组件，固定组件穿过第一调整块和第二调整块后形成固定点，调整组件穿过第一调整块和第二调整块后形成调整点；调整组件能够使得第一调整块在调整点处上下移动，以改变调整点和固定点之间的相对高度，进而调整位于第一调整块上的加热盘的水平度。当圆盘的水平度不佳且位于调整点上方的加热盘向下倾斜时，通过调整组件使得第一调整块在调整点处向上移动，以弥补向下倾斜的距离；反之，通过调整组件使得第一调整块在调整点处向下移动，以弥补向上倾斜的距离。本实用新型提供的调平装置能够针对倾斜的加热盘进行调整，保证晶圆上表面平整。
天眼查资料显示，拓荆创益（沈阳）『半导体』设备有限公司，成立于2023年，位于沈阳市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本50000万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆创益（沈阳）『半导体』设备有限公司参与招投标项目12次，财产线索方面有商标™️信息1条，专利信息342条，此外企业还拥有行政许可10个。
