【太平洋科技快讯】据科技媒体 WccfTech 8 月 7 日的报道，近期曝光的台积电 2nm 『芯片』技术泄密事件可能造成的实际危害低于预期。行业分析人士指出，涉事员工权限较低，接触的信息主要与设备性能相关，并未涉及关键研发资料。
据悉，涉事员工来自台积电新竹 Fab 20 厂区，该厂区目前正为 2nm 工艺的量产做准备。该员工涉嫌拍摄了控制图表或晶圆布局图，并将资料分享给日本设备供应商东京电子（TEL）的员工。而 TEL 是台积电的设备供应商，为其提供光阻涂布机、显影机等核心『半导体』制造设备。
行业专家分析认为，涉事员工的行为更可能是出于设备安装调试的参考需求，而非恶意窃取商业机密。目前，台积电和 TEL 均已解雇相关涉事人员，并发表声明强调“未发现机密信息外泄”。
