随着《蒙特利尔议定书》对消耗臭氧层物质（ODS）的全面禁令生效，全球制造业面临前所未有的技术转型压力。传统清洗剂HCFC-141b因破坏臭氧层的特性被列入淘汰清单，而市面主流替代品要么清洗效率不足，要么成本高昂。合肥华清高科表面技术股份有限公司推出的HQ-306精密电子元件、光学器件清洗剂，以革命性的技术突破，成功破解这一行业困局。
一、ODS替代的全球性困局
过去三十年，HCFC-141b凭借优异的挥发性和溶解力，成为精密电子、光学器件清洗领域的"黄金溶剂"。但其臭氧消耗潜力（ODP）值高达0.5，直接威胁地球臭氧层安全。根据联合国环境规划署数据，全球仍有38%的工业清洗企业因技术瓶颈延迟淘汰进程。某半导体协会调研显示：76%的制造商因替代溶剂清洗不彻底导致产品良率下降，63%的企业面临设备改造的高额成本。
二、HQ-306替代HCFC-141b
HQ-306 具备低硫、低芳烃、无毒无味、溶解力强、挥发性好等特性，符合环保要求。尤其适用于精密电子元件、光学器件及金属脱脂领域。在替代消耗臭氧层物质（如 CFC-113、HCFC-141b）方面具有显著优势。
三、HQ-306与HCFC-141b核心数据对比
1.关键性能指标
2.环保合规性
3.工艺经济性
在《蒙特利尔议定书》全面禁令下，HQ-306环保清洗剂以技术突破破解行业困局。这款由合肥华清高科研发的新一代清洗剂，兼具HCFC-141b的清洗效能与零臭氧层破坏的环保属性，成为精密制造领域ODS替代的核心方案。
