日久光电申请用于激光刻蚀的ITO导电膜专利，解决激光蚀刻过程中的“崩边”现象(日久光电题材)

国家知识产权局信息显示，江苏日久光电股份有限公司申请一项名为“用于激光刻蚀的ITO导电膜”的专利，公开号CN121483717A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，本发明公开了一种用于激光刻蚀的ITO导电膜，包括依次层叠设置的基材层、硬化层、光学匹配层以及ITO导电层；所述光学匹配层和ITO导电层均通过磁控溅射镀膜工艺制备；所述光学匹配层为一氧化硅和二氧化硅的混合镀层，折射率为1.6~1.7，所述光学匹配层中一氧化硅的含量为10wt%~20wt%。本发明的用于激光刻蚀的ITO导电膜，通过对整个膜层结构的设计，尤其是对光学匹配层中的组成成分的比例调整，从而解决了ITO导电膜在被激光蚀刻的过程中的“崩边”现象。

天眼查资料显示，江苏日久光电股份有限公司，成立于2010年，位于苏州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本28106.6667万人民币。通过天眼查大数据分析，江苏日久光电股份有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目3次，财产线索方面有商标™️信息14条，专利信息239条，此外企业还拥有行政许可16个。

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