埃马金申请用于OLED沉积的直接图案化沉积掩模专利，所述衬底的翘曲度优选地小于＜10um
8天前金融界2025年6月9日消息，国家知识产权局信息显示，埃马金公司申请一项名为“刚性蓝宝石基底的直接图案化沉积掩模”的专利，公开号CN120112671A，申请日期为2023年08月。 专利摘要显示，本公开提供…
光掩模：国产替代需求旺盛！
25天前光掩模行业具有逆面板周期特性，如2020-2025年面板行业上行时，面板掩模版销售额却下滑；相反，面板下行时掩模版公司收入增长，因平板显示厂商为保竞争力加大新品开发，带动掩模版需求。 路维光电在业绩说明会上…
EUV新局，巨头们的攻守之道
2月前其采取「有限 EUV」策略，仅在关键层使用极紫外光刻技术，其余工序依赖成熟的氟化氩浸没式（ArFi）设备和多重图案化工艺。美光认为当前 EUV 的稳定性不足，且设备购置与维护成本过高，尤其是在半导体市场周期性…