上海光机所在全息光刻研究方面取得进展(上海光机所地址在哪)
图1 肘形图形为目标图形，不同方法得到的全息掩模分布、空间像与光刻胶轮廓与基于GS 算法的全息掩模设计方法相比，新方法设计得到的全息掩模有效降低了空间像光强分布的均方根误差(RMSE)和面积误差比(AER)…
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奥多比申请无掩模合成图像生成专利，根据背景场景确定合成图像内前景元素的位置(奥多比是干什么的)
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