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新款光刻机,突破先进封装技术!明年上市(光刻机新突破)

先进封装技术进阶推动电路微细化、封装尺寸增大,采用树脂或玻璃基板的面板级封装需求将增长。尼康顺势推出半导体后道工艺数字光刻机“DSP-100”,2025 年 7 月起接单,2026 年上市。 该设备专为先…

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埃马金申请用于OLED沉积的直接图案化沉积掩模专利,所述衬底的翘曲度优选地小于<10um

金融界2025年6月9日消息,国家知识产权局信息显示,埃马金公司申请一项名为“刚性蓝宝石基底的直接图案化沉积掩模”的专利,公开号CN120112671A,申请日期为2023年08月。 专利摘要显示,本公开提供…

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光掩模:国产替代需求旺盛!

光掩模行业具有逆面板周期特性,如2020-2025年面板行业上行时,面板掩模版销售额却下滑;相反,面板下行时掩模版公司收入增长,因平板显示厂商为保竞争力加大新品开发,带动掩模版需求。 路维光电在业绩说明会上…

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EUV新局,巨头们的攻守之道

其采取「有限 EUV」策略,仅在关键层使用极紫外光刻技术,其余工序依赖成熟的氟化氩浸没式(ArFi)设备和多重图案化工艺。美光认为当前 EUV 的稳定性不足,且设备购置与维护成本过高,尤其是在半导体市场周期性…

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