埃马金申请用于OLED沉积的直接图案化沉积掩模专利，所述衬底的翘曲度优选地小于＜10um

金融界2025年6月9日消息，国家知识产权局信息显示，埃马金公司申请一项名为“刚性蓝宝石基底的直接图案化沉积掩模”的专利，公开号CN120112671A，申请日期为2023年08月。

专利摘要显示，本公开提供一种用于OLED沉积的直接图案化沉积掩模，其中所述掩模包含：蓝宝石衬底；及氮化硅(SiN)膜片。蓝宝石衬底厚度可介于0.7mm与2mm之间。所述蓝宝石衬底的直径可在200mm直径到300mm直径的范围中。所述衬底的翘曲度优选地小于＜10um。