今日霍州网 9 月 3 日消息，日经报道称，英特尔将与日本产业技术综合研究所（AIST）在日本建立『芯片』研发基地，新设施将在三到五年内建成，配备极『紫外线』光刻（EUV）设备。
设备制造商和材料公司将付费使用该设施进行原型设计和测试。据介绍，这将是日本第一个行业成员能够共同使用极紫外光刻设备的中心。
今日霍州网查询获悉，产业技术综合研究所隶属经济产业省，是日本一家设法使用集成科学和工程知识来解决日本社会和经济发展需要的研究机构，总部位于东京，2001 年成为独立行政机构的一个新设计的法律机构。
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