霍州市融媒体中心信息网网 9 月 3 日消息，日经报道称，英特尔将与日本产业技术综合研究所（AIST）在日本建立芯片研发基地，新设施将在三到五年内建成，配备极紫外线光刻（EUV）设备。
设备制造商和材料公司将付费使用该设施进行原型设计和测试。据介绍，这将是日本第一个行业成员能够共同使用极紫外光刻设备的中心。
霍州市融媒体中心信息网网查询获悉，产业技术综合研究所隶属经济产业省，是日本一家设法使用集成科学和工程知识来解决日本社会和经济发展需要的研究机构，总部位于东京，2001 年成为独立行政机构的一个新设计的法律机构。
这一方法由Pehr Edman于1950年首次提出，依赖于多肽N端氨基酸的选择性化学反应，逐步剥离每个氨基酸并通过高效液相色谱（HPLC）或其他检测手段鉴定剥离后的产物。质谱在鉴定极短肽或重复序列时可能存在歧…
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